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青岛福润德微电子设备有限公司
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供应微控扩散炉

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详细说明

    扩散炉主要满足半导体电力电子器件、大功率集成电路等行业,对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。



扩散炉技术指标:



可处理硅片尺寸:2—12英寸

外型形式:卧式1—4管结构

工作温度:200℃—1300℃

恒温区长度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃

单点温度稳定性、重复性: ≤±1℃/24h

温度斜变: 可控升温速率15℃/min

可控降温速率: 5℃/min

送片装置:全自动悬臂推拉舟、拉杆式推拉舟

气路系统:1—5路工艺气体/管

气体控制:全自动MFC

控制方式:工控机、触摸屏

 
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